半導体装置
コーター
高精度コーティングで
均一な膜形成を実現
半導体製造におけるレジスト塗布等の前工程から接着剤塗布等の後工程で用いられる塗布工程まで、お客様の求められる膜厚均一性を安定的に実現できる、精密なコーティング技術を提供しております。
半導体デバイスの高集積化・微細化が進む中、レジスト膜の均一性と密着性を高めるためには、高精度な塗布制御が不可欠となっています。特に微細化加工技術を進めるために、ナノレベルでの膜厚調整が求められ、より繊細なコーティング技術の開発が必要となっています。これに同じく、薬液供給の安定性やパーティクル管理の精度向上に関するニーズが高まっています。
当社のコーターは、用途や材料特性に合わせた装置設計を行い、塗布条件に最適化された仕様をご提案。精密制御技術を駆使し、安定した膜形成を実現します。さらに、微細化が進む半導体製造の環境下でも、信頼性の高いコーティング品質を確保できる装置を提供し、お客様の生産プロセスの向上に貢献します。
デモ機について
製造品質の向上に貢献するコーティング技術を実機で確認
製造プロセスに適したコーティング技術の選定は、品質の安定化や生産性向上に直結します。適切な塗布技術を導入することで、製品の信頼性向上や工程の最適化が可能になります。本デモでは、スピンコーター・スリットコーター・スプレーコーターの特性を比較し、実際の塗布結果をご覧いただくことで、貴社の製造環境に適した技術を検討いただけます。
スピンコーター
スピンコーターは、ウェハーを高速回転させ、その遠心力を活用して液体を均一に広げる装置です。この技術により、膜厚の精密な制御が可能となり、特にフォトレジスト塗布や薄膜形成において重要な役割を果たします。半導体製造や微細加工プロセスにおいて欠かせない技術であり、高い均一性と再現性を確保します。また、安定した品質を維持しながらさまざまな製造プロセスで活躍します。
スリットコーター
スリットコーターは、半導体製造において均一な薄膜を形成する装置です。液体をスリット状に分配しながら塗布することで、膜厚の精密な制御が可能になり、大面積の均質なコーティングにも適しています。特に、均一性と再現性の高い薄膜形成を実現し、製造プロセスの安定性を向上させることで、デバイスの品質向上に貢献します。これにより、半導体分野において信頼性の高い生産を支える重要な技術です。
スプレーコーター
スプレーコーターは、液体を霧状にし、ウェハーや電子部品の表面に均一に塗布する装置です。高精度な薄膜形成が可能で、特に広範囲に均一なコーティングが求められる場面で活躍します。さらに、多層膜の形成にも対応しており、加えてコンフォーマルコーティングにより、複雑な形状を持つ部品にも均一に塗布することが可能で、耐環境性の向上や電子部品の保護に寄与します。
コーティング技術は、製造業において品質・コスト・生産効率に密接に関わる重要な要素です。各技術の適用範囲を検証し、貴社の製造課題に対応するためのヒントとしてご活用いただけます。具体的な課題やご要望に沿った提案をさせていただきますので、ぜひこの機会にデモをご体験ください。
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洗浄機
精密洗浄で
製造プロセスの品質を向上
半導体製造における洗浄工程は、微細加工の信頼性を確保するための重要なプロセスです。ウェーハ表面の微粒子や有機物の除去を徹底することで、歩留まりの向上と不良率の低減に貢献します。
当社の洗浄装置は、使用薬液や洗浄対象の特性に応じて設計され、均一かつ安定した洗浄性能を実現。精密な流体制御を採用し、洗浄効率の向上と環境負荷の軽減を両立させています。確かな洗浄技術で、生産プロセスの品質向上を支えます。
